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美国International Light辐照度计XSD140B
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美国International Light辐照度计XSD140B

美国IL ILT2400辐照计XSD140B探头365nm光阻剂光刻胶辐射测量

International Light国际光学ILT2400辐照计专用探头XSD140B用于PCB印刷线路板及半导体行业光刻胶工艺紫外线曝光强度测量,响应波段326-401nm,中心波长365nm,辐照度量程7e-8至1W/cm2,研究级的质量,手持式产品的价格。

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美国International Light国际光学公司自1965年成立以来,为客户提供各种光源及设计制造精确的光测量仪器,满足广泛的需求,解决光测量的固有困难。ILT测光表是易于使​​用的高性能仪器,非常适合用作光度计photometers (勒克斯lux meters)、强度计intensity meters (坎德拉candela)、固化测量仪/辐照度计/光量计curing meters (剂量和曝光测量dose and exposure meters)、能量功率计power meters (瓦或流明watts or lumens)和flash meters (Xenon or LED strobe lamps)。ILT公司的经典产品包括UV灯、ILT1400辐射计及升级款ILT2400辐照计、ILT1700研究级光测量仪。

 

Photoresist光刻胶是一种光敏化学物质,用于在表面或基材上形成涂层,并用于形成工业加工的图案。然后可以将该涂层暴露于称为光刻胶的作用光谱的特定光带,以影响光刻胶中期望的变化。这种变化导致光致抗蚀剂变得可溶或不溶于称为显影剂的另一种化学品,该显影剂将在光致抗蚀剂上被洗涤。一旦显影,已经暴露于作用光谱中的光刻胶保留或被冲走,留下可用于进一步处理的图案,例如化学蚀刻,雕刻或光刻。

光阻剂广泛用于PCB印刷电路板行业,其中通过其使用蚀刻化学品来布置电路连接或印刷电路板迹线。另一个重要的光刻胶用户是半导体工业,它是用于形成单个半导体器件的微小电路的微图案的光刻生产中的关键步骤。市场上存在多种光刻胶类型以适应各种各样的应用,并且作用光谱可以从一个波段变化到另一个波长。

控制作用光谱曝光设置(光线辐照强度和曝光时间)是至关重要的,它可以避免在加工和生产过程中光刻胶的浪费性下曝光或曝光过度。为了保持这些设置,需要具有尽可能接近光阻剂作用光谱的光谱响应的测光表辐照计来精确地知道光致抗蚀剂曝光的程度。更复杂的是,光刻胶暴露的加工设备通常非常紧凑并且没有足够的空间来进行这些测量。

 

美国ILT国际光学致力于提供各种独特的光刻胶专用仪器来实现这些困难的测量。如用于ILT2400辐照计的XSD140B光探测器探头可测量326-401nm波段,辐照度范围7e-8 ~ 1 W/cm²,直径大小15x42 mm,另有XSD340B 30 W/cm²高强度探头,可针对特定波长为这些探头安装过滤片以进行精准测量。

International Light XSD Detectpr系列光刻探测器

ILT2400+XSD140A:量程4e-8 to 0.7 W/cm2,响应波段320-475 nm,校准于405nm波长

ILT2400+XSD340A:量程8e-7 to 10 W/cm2,响应波段320-475 nm,校准于405nm波长

ILT2400+XSD140B:量程7e-8 to 1 W/cm2,光谱范围326-401 nm,中心波长365nm

ILT2400+XSD340B:量程3e-6 to 30W/cm2 高强度,测量光谱326-401 nm,校准于365nm

规格文档说明书http://www.testeb.com/download/201805/ILT2400_XSD140B.pdf

 

美国International Light PCB板曝光测量光刻胶辐照计与探头选型表

辐照计/探头组合 响应波长频谱 测量范围 类型及应用
ILT5000, SED033/A/W 320-475 nm 2e-9 ~ 2 W/cm² 台式,Photoresist光刻胶/光阻材料,
PCB板曝光系统,UVA光源,UV-Vis光源
ILT2400, SED033/A/W 320-475 nm 2e-7 ~ 2 W/cm² 手持式,Photoresist光刻胶/光阻剂,同上
ILT1000/A/W 320-475 nm 2e-7 ~ 2 W/cm² 手持式,Photoresist光刻/光阻剂,
PCB板曝光系统,UVA光源,UV-Vis光源
ILT1700, SED033/A/W 320-475 nm 7e-9 ~ 4 W/cm² 台式,Photoresist光刻/光阻剂,同上
ILT2400, XSD140A 320-475 nm 4e-8 ~ 0.7 W/cm² 手持式,Photoresist光刻/光阻剂,
PC板曝光系统,UVA光源,UV-Vis光源
ILT2400, XSD340A 320-475 nm 8e-7 ~ 10 W/cm² 同上,大功率高强度辐照探头
ILT5000, SED033/B/W 326-401 nm 3e-10 ~ 0.2 W/cm² 台式,Photoresist光刻/光阻剂,
PCB线路板曝光系统,UVA光源,UV-Vis光源
ILT2400, SED033/B/W 326-401 nm 2e-8 ~ 0.2 W/cm² 手持式,同上
ILT1700, SED033/B/W 326-401 nm 5e-9 ~ 0.5 W/cm² 台式,同上
ILT1000/B/W 326-401 nm 2e-7 ~ 2 W/cm² 手持式,同上
ILT2400, XSD140B 326-401 nm 7e-8 ~ 1 W/cm² 手持式,Photoresist光刻/光阻剂,
PCB曝光系统,UVA光源,UV-Vis光源
ILT2400, XSD340B 326-401 nm 2e-6 ~ 30 W/cm² 手持式,Photoresist光刻胶/光阻剂,高强度测量
ILT2400, SSD001 260-400 nm 6e-6 ~ 0.9 W/cm² 手持式,超薄传感器,
PCB板曝光系统,UVA光源,UV-Vis光源

ILT2400中文版简易操作说明书http://www.testeb.com/download/201805/ILT2400_Quick_Manual.pdf

分析仪软件介绍文档http://www.testeb.com/download/201805/ILT_DataLight-Trend-Manual.pdf

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